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薄膜沉积设备是芯片制造的核心设备，主要用于在硅片表面沉积纳米级薄膜材料，其技术原理和工艺直接影响芯片性能。其技术原理是通过 化学气相沉积 （CVD）、 物理气相沉积 （PVD）和 原子层沉积 （ALD）等技术实现。
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耐腐蚀型化学除铁器 采用316L不锈钢与PTFE涂层，耐酸碱腐蚀，全密封结构防止液体泄漏，适用于盐酸、硫酸等腐蚀性流体除铁。钕铁硼永磁体产生14000高斯磁场，可捕获1μm级铁杂质，确保化工原料纯度，满足锂电浆料、电子溶剂等高端需求。
初识LLC谐振变换器
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玩太空杀的时候大东北乱入
13.3D动画基础（功能动画）
朋友说一秒不用减，生日当天抽通行证
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